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项目名称: 东湖科技新城控制性详细规划
奖项名称:

优秀规划设计一等奖

获奖级别: 建设部
获奖日期: 2003年
设计人员: 于一丁胡跃平何梅黄宁、涂胜杰、谢慧、何玮、钟华、张婷

项目简介:

武汉东湖新技术开发区是全市三大国家级开发区之一,也是武汉科技新城(武汉.中国光谷)的主要部分。控规编制区域是开发区的重点建设区,也是科技新城的核心功能区。规划范围总面积29.91平方公里。规划期限为2003年—2010年。

控规区规划建设科技新城的重要产业基地,高新技术产业群体的高度密集区,全国一流的高新技术科技工业园区。规划总人口在现状10.1万人基础上,控制在18.6万人以内。

深化科技新城总体规划的整体布局,以开发区“丁”字形布局结构为依托,形成“一区两主四副”的中心布局体系,和“一个科技商贸区、四个产业园区”的园区布局框架。

适应开发建设的不确定性,提出建议用地性质、替代用地性质、待批用地性质、禁止用地性质4个适建级别,在规划管理中,可以通过审批程序上的不同要求来实现。

在控规区内采用全区系统平衡、主控园区综合平衡、街坊独立平衡、地块落实指标等四级控制体系。为便于操作与比较,提出征地范围、权属范围、得地率等新的概念。

将控规指标归纳整理成土地利用与使用属性指标、环境容量与土地使用强度指标、建筑形态与城市设计指标、设施配置指标等4大指标内容体系,相应形成控制性指标(包括控制性辅助指标)和引导性指标两大控制类别。

 
规划结构图
 

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获奖作品

 

 

 

 

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